等離子清洗/刻蝕機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動距離也愈來愈長，受電場作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)，不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體，從而達(dá)到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時(shí)會發(fā)出輝光，故稱之為輝光放電處理。

輝光放電時(shí)，在放電管兩極電場的作用下，電子和正離子分別向陽極、陰極運(yùn)動，并堆積在兩極附近形成空間電荷區(qū) 。因正離子的漂移速度遠(yuǎn)小于電子，故正離子空間電荷區(qū)的電荷密度比電子空間電荷區(qū)大得多，使得整個(gè)極間電壓幾乎全部集中在陰極附近的狹窄區(qū)域內(nèi)。這是輝光放電的顯著特征，而且在正常輝光放電時(shí)，兩極間電壓不隨電流變化。

所以，我們在實(shí)驗(yàn)或生產(chǎn)過程中，千萬不要將材料接觸于電極板任何部位，否則將會導(dǎo)致整機(jī)短路，嚴(yán)重的情況則會燒壞電路板等。正確理解輝光的原理，對我們等離子清洗工藝處理特殊材質(zhì)會有很大的幫助！