等離子體介紹及應用

1.等離子體基礎知識：
　　等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性"組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。
　　2.等離子清洗原理：　　等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四中狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；未反應的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
　　等離子清洗/刻蝕技術是等離子體特殊性質(zhì)的具體應用：
　　等離子清洗/刻蝕機產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起化學反應，不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時會發(fā)出輝光，故稱之為輝光放電處理?！?
　　等離子體清洗的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。
　　等離子體清洗技術的一大特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現(xiàn)整體和局部以及復雜結構的清洗。
　　等離子體清洗還具有以下幾個特點：容易采用數(shù)控技術，自動化程度高；具有高精度的控制裝置，時間控制的精度很高；正確的等離子體清洗不會在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；由于是在真空中進行，不污染環(huán)境，保證清洗表面不被二次污染。

固體（Solid）    液體（Liquid）    氣體（Gas）  等離子體{Plasma}

2. 等離子體工藝應用：

1）表面清潔

2）表面激活

3）蝕刻

4）等離子接枝、聚合

5. 等離子體的應用領域：

線路板PCB/FPC

半導體刻蝕、封裝活化

LED清潔、封裝活化

汽車電子

太陽能

紡織印染

生物醫(yī)療

印刷

觸摸屏及玻璃清潔

環(huán)保廢氣處理

6. 等離子體表面處理的特點和優(yōu)勢

① 速度快：氣體放電瞬間發(fā)生等離子體反應,有時幾秒鐘就可改變表面的性質(zhì)；

② 溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料；

③ 能量高：等離子體是具有超?；瘜W活性的高能粒子，在不添加催化劑的溫和條件下即可實現(xiàn)傳統(tǒng)熱化學反應體系所不能實現(xiàn)的反應（聚合反應）；

④ 廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地處理；

⑤ 功能強：僅涉及高分子材料淺表面，可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種及以上新的功能；

⑥ 環(huán)保型：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應，不消耗水資源、無需添加化學試劑，對環(huán)境無殘留物，具有綠色環(huán)保特征；

⑦ 低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續(xù)運行。因此，采用等離子體高分子材料改性技術可能克服傳統(tǒng)方法使用中的缺陷，使高分子材料表面加工更符合環(huán)保原則。